场发射扫描电镜

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◆生产厂商：美国FEI公司

◆设备型号：NovaTEMNanoSEM 450

◆技术参数：加速电压200V～30kV，连续可调；最大放大倍率30万倍。分辨率：二次电子像（SE）/高真空：1.0nm @ 15kV，1.8nm @ 1kV；二次电子像（SE）/低真空：1.5nm @ 10kV(Helix探测器)，1.8nm @ 3kV(Helix探测器)。背散射电子像（BSE）：3.5nm @ 100kV。

◆制样要求：块状或粉末样品，大小不超过8cm×8cm；非导电性样品需进行喷金或喷碳处理；样品内不含有水分或挥发性物质；顺磁性和强磁性物质需提前声明。

◆主要特点：

1）超高分辨率Schottky场发射电子枪；

2）全球唯一的超高分辨率低真空场发射扫描电镜，具有高真空和低真空(＜200Pa)两种真空模式；

3）对容易污染、容易电荷积累的纳米材料和纳米器件进行观察和分析效果良好；

4）完全无油真空系统

◆应用领域：各种金属类、非金属类、涂（镀）层等的表面及剖面微观分析。