我所参加第45届国际冶金涂层及薄膜会议

美国当地时间4月23-27日，我所所长代明江一行3人受邀参加第45届国际冶金涂层和薄膜会议（International Conference on Metallurgical Coatings and Thin Films，简称ICMCTF），ICMCTF是国际上公认的层次高、专业强、历史悠久的技术会议，是这一领域最重要的国际会议之一，专注于薄膜沉积、表征和先进的表面改性技术集成的相关基础和应用的最新研究与尖端应用。本次会议于美国圣地亚哥召开，汇聚了来自全球39个国家超千人的学术界和工业界的科学家和工程师参加。会议共设415个口头报告和116篇墙报，内设8个分会场。我所参会人员作了题为“Effects of substrate Bias voltage on the microstructure and properties of Al-doped diamond-like carbon films”的墙报，与其他与会人员进行了充分交流。

会议前后，参会代表还访问了美国科迈迪科公司和美国西南研究院，分别就HVAF高速火焰喷涂工艺与设备和真空镀膜技术的研究开发进行了交流，为双方下一步的技术交流和商业合作打下了坚实基础。

（撰稿  王昊）