真空镀膜技术领域装备

离子辅助热蒸发复合磁控溅射镀膜机

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【仪器简介】:本设备将磁控溅射技术、离子轰击技术和蒸发镀技术集成到同一真空室中,实现了将磁控溅射技术涂层致密、耐腐蚀性佳、结合强度高的优势,和蒸发镀技术沉积速率高、生产效率高的优势有机结合。主要用于在小型紧固件、钕铁硼永磁体上制备腐蚀防护涂层。

【仪器参数】:本设备采取卧式滚镀设计,有效镀膜区域为Φ500mm(直径)×650mm(宽),可耐温300℃。